摘要:化學機械拋光(CMP)是一種廣泛應用于半導體晶圓加工,通過結合化學力和機械力對晶圓表面進行拋光、平坦化。CMPSlurry(拋光液/研磨液)是用于CMP工藝中的重要原料,通常由納米及亞微米級別原料組成。而Slurry中的大顆粒的存在易...
摘要:化學機械拋光(CMP)是一種廣泛應用于半導體晶圓加工,通過結合化學力和機械力對晶圓表面進行拋光、平坦化。CMPSlurry(拋光液/研磨液)是用于CMP工藝中的重要原料,通常由納米及亞微米級別原料組成。而Slurry中的大顆粒的存在易...
如何把固體含量轉換成顆粒濃度我們知道標準粒子(顆粒類標準物質)中的粒度標準粒子,其證書上只有固液質量占比的參數,也就是固含量。但是有時候我們想知道不同粒徑標粒的每毫升的顆粒濃度,除了使用顆粒計數器來檢測之外,我們還可以通過固含量與顆粒濃度的...
標準粒子在過濾系統中的應用關鍵詞:標準粒子;過濾器;顆粒計數器靜脈輸液給藥是一種藥物不經任何生物屏障直接進入人體血液循環系統的給藥方式,在我國應用普遍。在輸液過程中引入的不溶性微??沙蔀檎T發心腦血管病、肺栓塞的危害因素,所以微粒污染問題已受...
標準粒子在光散射研究中的應用關鍵詞:標準粒子;米氏散射光的散射(scatteringoflight)是指光通過不均勻介質時一部分光偏離原方向傳播的現象。偏離原方向的光稱為散射光。散射光頻率不發生改變的有瑞利散射、米氏散射和大粒子散射;頻率發...
標粒的選擇關鍵詞:粒度標準物質;標準粒子的制備;定值;不確定性評定不同尺寸不同特征值不同性能參數的標準粒子應用于不同行業,同時各個行業也有自己的標準粒子使用標準,具體到行業應用,標準粒子一般應用于各行業儀器的校準、驗證或者是某些研究項目的研...
摘要:近年來,MLCC(多層陶瓷電容器)在智能手機、汽車、工業等領域的需求快速增長。陶瓷漿料是MLCC的主要原材料之一,電極通過陶瓷漿料印刷、固化而成。對于陶瓷漿料而言,配比漿料的穩定性及漿料的均一性是影響后續流延工藝、印刷工藝、燒結工藝難...
一、行業背景根據E4tech的統計數據顯示,2021年全球氫燃料電池中PEMFC(ProtonExchangeMembranceFuelCells質子交換膜型燃料電池)系列產品占據著統治地位,超過80%的市場由此貢獻;PEMFC主要由膜電極...
USP788解讀與AccusizerA2000應用摘要:USP美國藥典是美聯邦對藥品質量標準和檢定方法作出的技術規定,其中USP章節是對注射液中的不溶性顆粒的危害與檢測、判定標準做了詳細的表述,包括第一光阻法和第二顯微鏡法,本文將對USP詳...